【资料图】

1、刻蚀相对光刻要容易。

2、光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。

3、“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。

4、原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。

5、“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。

6、然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。

本文分享完毕，希望对大家有所帮助。